HiPIMS高功率脈沖磁控濺射電源被廣泛應用于各類(lèi)PVD和PECVD工藝，用來(lái)制備高端金屬裝飾膜,功能膜和類(lèi)金剛石(DLC)膜層等。相較于中頻磁控濺射電源，HiPIMS有著(zhù)離化率高，繞鍍性好，膜層致密性好，成膜色澤優(yōu)異等特點(diǎn)。HiPIMS最典型的應用包括對膜層致密性要求高的各類(lèi)功能膜和硬質(zhì)膜，iPhone的玫瑰金手機殼，高端手表表殼等。行業(yè)領(lǐng)先的精新HiPIMS電源作為可對標德國霍廷格(TRUMPF Hüttinger)同類(lèi)型電源的產(chǎn)品，已為國內十多家真空鍍膜客戶(hù)提供了優(yōu)質(zhì)服務(wù)，廣受好評。